尔必达开发出25纳米工艺内存芯片
尔必达宣布,他们已经开发出了基于25纳米制程工艺的2Gb DDR3内存芯片。
尔必达最新内存芯片可支持1866Mbps数据传输速率,并兼容低压1.35伏1600Mbps数据传输。和尔必达30纳米工艺相比,新工艺芯片每比特所需要的存储单元空间降低30%,每片晶圆上的芯片产能提升30%。
尔必达将在今年7月份进行芯片样品出货和量产,并计划在今年年底前量产25纳米工艺4Gb DDR3颗粒。
您的当前位置:汇天PCB抄板科技有限公司 > 新闻中心 > 行业新闻 > 浏览文章
尔必达宣布,他们已经开发出了基于25纳米制程工艺的2Gb DDR3内存芯片。
尔必达最新内存芯片可支持1866Mbps数据传输速率,并兼容低压1.35伏1600Mbps数据传输。和尔必达30纳米工艺相比,新工艺芯片每比特所需要的存储单元空间降低30%,每片晶圆上的芯片产能提升30%。
尔必达将在今年7月份进行芯片样品出货和量产,并计划在今年年底前量产25纳米工艺4Gb DDR3颗粒。